Agilis  研究開発クラスターツール



《Agilis》は、多岐にわたる成膜プロセスと拡張性を備えた研究開発用クラスターツールです。
基本ユニットは、全て同一形状で設計されているのでお客様のニーズに応じて
各種、プロセスのコンビネーションや拡張が可能です。



米国プラズマサイエンス製

対応プロセス

 
UHV/XHV スパッタリング
   RF スパッタリング
   DC マグネトロンスパッタリング

 
UHV 蒸着

 
PLD

 
プラズマ CVD

 
リモートプラズマ CVD

 
プラズマエッチング

 
その他
 

超コンパクト設計 使用床面積 30p×60p



拡張例


基本シングルプロセスユニット


フォーチャンバーユニット
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Agilis シリーズ ラインナップ

Agilis Minimus 60o 径基板まで対応
Agilis 2001 125o径基板まで対応
Agilis 2002 200o径基板まで対応
Agilis 2003 300o径基板まで対応



真空特性 膜圧均一性(スパッタリング)