Agilis　　研究開発クラスターツール
《Agilis》は、多岐にわたる成膜プロセスと拡張性を備えた研究開発用クラスターツールです。 基本ユニットは、全て同一形状で設計されているのでお客様のニーズに応じて 各種、プロセスのコンビネーションや拡張が可能です。
米国プラズマサイエンス製
		◆対応プロセス 　◇UHV/XHV スパッタリング 　　 RF スパッタリング 　　 DC マグネトロンスパッタリング 　◇UHV 蒸着 　◇PLD 　◇プラズマ CVD 　◇リモートプラズマ CVD 　◇プラズマエッチング 　◇その他
超コンパクト設計　使用床面積 30�p×60�p

◆拡張例
基本シングルプロセスユニット		フォーチャンバーユニット
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◆Agilis シリーズ　ラインナップ
◇Agilis Minimus		60�o　径基板まで対応
◇Agilis 2001		125�o径基板まで対応
◇Agilis 2002		200�o径基板まで対応
◇Agilis 2003		300�o径基板まで対応

◆真空特性		◆膜圧均一性（スパッタリング）